UV紫外光清洗技术去除物体表面碳和有机污染物特点

随着光电子产业的迅猛发展，清洗工艺在光电产品中是必不可少的工艺，清洗对产品的质量、精度、外观等方面的影响也越来越重要。那么该如何保证产品的高可靠性和高成品率？如何保证生产的安全性及生产过程中对环境的保护？传统的化学清洗和物理清洗已经很满足到现阶段的需求。在这样的情况下，我们该如何在安全又环保的前提下，并使用新的技术彻底清除物体表面的污物？目前国外广泛使用的清洗方法是uv灯管紫外光清洗，它一方面能避免由于使用有机溶剂造成的污染，同时能够将清洗过程缩短。

我们先来介绍一下国外使用的紫外光清洗的工作原理：    

紫外光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质，经过光清洗后的材料表面可以达到"原子清洁度"。简单来说就是：UV光源发射波长为185nm和254nm的光波，具有很高的能量，当这些光子作用到被清洗物体表面时，由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波长的紫外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子，这就是所谓光敏作用。空气中的氧气分子在吸收了185nm波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波长的紫外光同样具有强烈的吸收作用，臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的,在它作用下，物体表面上的碳和碳氢化合物的分解物可化合成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而彻底清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。  

同时uv紫外光清洗又具有鲜明的特点：     

1、是一种无接触方式，可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。 

2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。

uv紫外光清洗的技术在应用范围上也比较广阔，可以使用在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中需光清洗的环境。另外，在一些材料如：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片等都可以使用uv紫外光清洗。